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SI2300 SOT-23参数和中文资料 - 场效应MOS管 - 壹芯微

返回列表来源:壹芯微 发布日期 2021-07-09 浏览:-

SI2300 SOT-23参数和中文资料 - 场效应MOS管 - 壹芯微

SI2300(N沟道增强型场效应晶体管)

品牌:壹芯微|类型:场效应管|封装:SOT-23|批号:21+|备注:全新国产 优质现货 质量放心 高性价比


SI2300场效应管主要参数
参数\型号SI2300

极性N

ID(A)3.8

VDSS(V)20

RDS(ON):Max(Ω)0.04

RDS(ON):VGS(Ω)4.5

VGS(th):(V)0.6~1.5

Gfs(min):(S)13

Gfs(min):Vgs(V)15

Gfs(min):Io(A)2.9

封装SOT-23


SI2300 SOT-23参数和中文资料 - 场效应MOS管 - 壹芯微

增强型MOS(EMOS)场效应管根据图,N沟道增强型MOSFET基本上是一种左右对称的拓扑结构,它是在P型半导体上生成一层SiO2 薄膜绝缘层,然后用光刻工艺扩散两个高掺杂的N型区,从N型区引出电极,一个是漏极D,一个是源极S。在源极和漏极之间的绝缘层上镀一层金属铝作为栅极G。P型半导体称为衬底,用符号B表示。

工作原理

沟道形成原理

当VGS=0 V时,漏源之间相当两个背靠背的二极管,在D、S之间加上电压不会在D、S间形成电流。当栅极加有电压时,若0<VGS<VGS(th)时,通过栅极和衬底间的电容作用,将靠近栅极下方的P型半导体中的空穴向下方排斥,出现了一薄层负离子的耗尽层。耗尽层中的少子将向表层运动,但数量有限,不足以形成沟道,所以仍然不足以形成漏极电流ID。


SI2300 SOT-23参数和中文资料 - 场效应MOS管 - 壹芯微

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